核心功能：在反渗透（RO）产水基础上，通过EDI电去离子、抛光混床、脱气装置、终端过滤等精处理单元，深度去除微量离子、溶解气体（如CO₂）、有机物，产出纯度达18.25MΩ·cm的超纯水，满足高端工艺用水需求。
工作原理：RO产水先经EDI装置（电驱动离子交换，无需化学再生）去除大部分剩余离子；再经抛光混床（核级树脂）深度吸附微量离子；脱气装置去除CO₂等气体；最后通过终端精密过滤去除微小颗粒，实现理论级高纯度。
精处理设备：EDI装置、抛光混床、脱气装置（膜脱气/真空脱气）、终端精密过滤器（0.22μm）。
项目 | 详情 |
产水纯度 | 电阻率18.25MΩ·cm@25℃，总有机碳（TOC）≤10ppb |
杂质控制 | 颗粒数（≥0.22μm）≤1个/mL，溶解硅≤1ppb，金属离子≤0.1ppb |
EDI装置参数 | 处理流量5-100m³/h，电流0-5A，电压0-600V，产水电阻率≥15MΩ·cm |
抛光混床 | 树脂类型：核级混床树脂，再生方式：一次性使用（抛弃型）/体外再生 |
脱气装置 | 膜脱气/真空脱气，CO₂去除率≥99%，溶解氧≤10ppb |
终端过滤 | 过滤精度0.22μm/0.45μm，滤芯材质PVDF/聚醚砜 |
处理流量 | 0.5-200m³/h（可定制） |
控制方式 | PLC全自动控制，含电阻率在线监测、流量保护、报警功能 |
进水要求 | 前置RO产水：电阻率≥0.5MΩ·cm，TDS≤100mg/L |
• 适用场景：电子行业高纯度工艺用水、制药行业注射用水、实验室分析用水、光伏/半导体行业清洗用水。
• 适配行业：半导体芯片制造、液晶面板生产、制药行业注射用水制备、科研实验室（ICP/MS等仪器用水）、新能源（光伏、锂电池）行业。
